印染廠污水采用光化學氧化技術治理
對于光化學氧化技術我們先來了解下，光化學氧化法包括光敏化氧化，光激發(fā)氧化，光催化氧化三種工藝，所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝。光化學氧化法是在化學氧化和光輻射的共同作用下，使氧化反應在速率和氧化能力上比單獨的化學氧化、輻射是目前一項高級氧化的污水處理技術。能無選擇地將絕大多數(shù)有機物徹底氧化成CO2、H2O和其它無機物，反應速度快，耗時短。它對難降解而具有毒性的小分子有機物去除效果極佳。
經過調查研究發(fā)現(xiàn)，對于印染廢水其主要是來源于染料的顏色染料分子的共扼體系—含不飽和基團-N=N-、-N=O等的發(fā)色體。利用光化學氧化工藝上的特點和染料污水的分子結構特征，處理印染污水光化學氧化產生的羥基自由基能夠有效打破共扼體系結構，使之變成無色的有機分子，并進一步礦化為H2O、CO2和其他無機物質，使印染污水處理得到凈化。
經過多家印染公司的實踐，印染廠污水處理工藝采用光化學氧化技術在印染廢水處理方面具有其他工藝所無可比擬的優(yōu)勢。但是由于運行成本較大，目前多數(shù)多只用于大型印染企業(yè)和預算高、要求高的企業(yè)。
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